朗道燧岩 EUV 光源系统样机 2026 工博会首秀：国产化率达 90%，距量产仍需 3~5 年

IT之家 10 月 14 日消息，2026 年第二十六届中国国际工业博览会正在国家会展中心（上海）举行，创新科技馆内百余项上海科创成果集中亮相。 据解放日报，朗道燧岩首次在此次工博会上展示了一台极紫外（EUV）光源系统样机，这也是目前公开展示中国产进度最靠前的 EUV 光源样机，被称作高端光刻机的“心脏”。 据现场工作人员介绍，本次展出的光源系统国产化率达 90%，绝大多数核心零部件为自主研发，技术路线与国际领先厂商一致，可用于芯片曝光测试。 解放日报指出，极紫外光源是 7nm 及以下先进制程芯片制造的三大核心零部件之一，长期受海外技术垄断与禁运限制，是制约中国高端芯片自主可控的关键环节。 IT之家注意到，朗道燧岩官网已列出多款 EUV 产品，包括高功率极紫外光源腔体 FlintMicro-LPP Alpha01、激光诱导等离子体极紫外光源，以及低功率 EUV 光源系统 FlintNano LPP-OXXO 系统。 官网显示，高功率极紫外光源系统 FlintMicro-LPP 系列已完成原理论证，低功率极紫外光源系统 FlintNano-LPP 系列已处于产品化阶段。 据官网公布的技术参数，FlintNano LPP-OXXO 的驱动激光功率为 1000W，激光频率 1 至 20kHz，转换效率大于 2%，亮度为 100W/mm²sr，EUV 能量大于 15W，持续工作时间超过 100 小时，发散角为 1×10⁻³mm²sr，等离子体尺寸 60μm，等离子体稳定性为 3% RMS，能量稳定性为 5%。 朗道科技主要从事半导体制造专用设备的研发、生产与相关技术服务，创始人王豪博士团队以清华大学气体放电等离子体实验室的研发成果为基础，聚焦 LPP-EUV 光刻光源技术。公司成立于 2024 年，2025 年 10 月获得张江高科旗下燧玥创投的天使轮融资，累计融资额超千万元，并入驻上海集成电路设计产业园。2026 年 1 月完成天使 + 轮融资，2026 年 7 月完成 A 轮融资，投资方包括沃衍资本、中芯聚源等。目前公司拥有燧岩、辉光、天算三大核心业务板块，分别聚焦 EUV 光源系统、大功率二氧化碳轴快流激光器以及等离子体仿真软件。 尽管首秀标志着国产 EUV 光源从实验室走向产业化的关键一步，但现场工作人员坦言，该光源系统距离量产仍需 3 至 5 年时间。当前面临的核心挑战在于提升输出功率和长期运行稳定性。商用 EUV 光刻系统要求光源功率达到数百瓦级别，并能在长时间运行中保持高度可靠。工博会现场展示的样机目前验证了技术路线的可行性，但距离工业级应用所需的产品成熟度仍有明显差距。 相关阅读： 《 华为余承东：极紫外光刻（EUV）设备是制造先进芯片的关键，国内目前正在研发 》 《 阿斯麦 ASML 公布 EUV 光源技术突破，2030 年芯片产能有望提升 50% 》

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